優化技職校院實作環境計畫

國立高雄科技大學(建工校區/燕巢校區)

半導體封裝測試類產業環境人才計畫

雷射局部加熱系統

資料更新時間: 2021-02-17 15:47


設備名稱	雷射局部加熱系統	設備型號	1
設備領域	電子電機(含循環經濟、綠能科技)	設備所在區域	高雄市
設備放置地點	多功能實習大樓3樓	採購年度	109

設備主要功能集描述

1. 光纖雷射系統
2. 皮秒/奈秒混合型
3. 皮秒最短脈衝100ps
4. 奈秒可調脈衝3~500ns
5. 脈衝重複率200KHz~2MHz
6. 平均功率>30W
7. 峰值功率>100KW
8. M2 <= 1.6
9. =1064±5nm
10. 含XY控制平移台10x10cm及Z軸高度控制
11. 含紅光導引光點
12. 光纖輸出
13. 最小可加工線寬0.016mm

設備租借辦法

設備租借收費標準

設備使用是否須接受事前訓練

否

聯絡方式

保管單位：國立高雄科技大學電機與資訊學院

聯絡人：陳姿妤

聯絡電話：(07)3814526*13003

Email：waoffice01@nkust.edu.tw

設備備註

雷射局部加熱系統